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关于抛光皮作用及不同材质和制造工艺与性能分析
一、抛光皮的作用:
1.把抛光液有效均匀地输送到抛光皮的不同区域;
2.从被加工表面带走抛光过程中的残留物质、碎屑等,达到去除效果;
3.传递和承载加工去除过程中所需的机械载荷;
4.维持抛光皮表面的抛光液薄膜,以便化学反应充分进行;
5.保持抛光过程的平稳、表面不变形,以便获得较好的产品表面形貌。
二、抛光皮不同材质和制造工艺介绍:
不织布磨皮
薄状聚酯纤维层叠后,用针反复撞击使纤维结合在一起使其成为毛毡状,并把它浸在聚氨树脂或乳胶(SBR NBR等橡胶)中,然后切片,抛光,完成最终产品。
聚氨酯硬质磨皮
聚氨酯预聚物和硬化剂(增链剂)、发泡剂按照规定量混合后,注入定型容器中做成块状,然后通过切片机加工成最终片状磨皮。
阻尼布磨皮
聚氨酯树脂和发泡添加剂颜料(炭黑)等混合后放入水中凝固,干燥成薄膜状。然后通过抛光加工,粘上基材和双面胶得到最终产品。
三、抛光皮性能分析:
影响抛光皮性能的因素:内部因素和外部因素
内部因素
硬度—抛光皮的硬度决定保持面形精度的能力;
压缩比—压缩比反映抛光皮的抗变形能力;
涵养量—抛光皮的涵养量是单位体积的抛光皮存储抛光液的质量;
粗糙度—表面粗糙度是抛光皮表面的凹凸不平程度;
密度—密度是抛光皮材料的致密程度。
外部因素
CMP是由运动学,力学,流体力学,化学,摩擦,磨耗等各种复杂作用来移除材料表面。
影响抛光皮性能的外部因素主要有抛光液的成份&浓度、抛光粉的粒径、压力、速度、时间、温度等。
材料移除量(RP)计算公式:RP=K×P×V×T
【k:比例定数 P:研磨压力 V:研磨速度(磨皮和研磨对象物的相对速度) t:研磨时间】
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更新时间:2019-05-29 10:49:29 【
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